比如他今天来到的这家“同辉胶卷”公司。
div css=&ot;ntentadv&ot; 同辉胶卷创建于五十年代，以往主要生产制造各类相机胶卷和录像带，七十年代与时俱进，开创了一个全新部门——膜版部。
研发制造光掩膜版。
这玩意儿，是芯片制造的核心材料之一！
正常情况下，制造芯片的第一步是光刻，也就是把电路图印到晶圆上。
光刻之前，则需要准备掩膜版，就是根据事先设计好的电路图做成光罩。光罩类似于底片，光刻机的特殊光源通过光罩之后，再通过光刻胶，便能把电路图印在晶圆上。
收购同辉胶卷公司，李建昆只为膜版部一个部门。
当然了，如果没有这个部门，单从赚钱的角度讲，这家公司也是可以买的。
大陆市场现在对彩色胶卷这种新鲜事物，需求量非常大，而这家公司在这方面，技术相当扎实，否则也生不出研发光掩膜版的信心。
现在，李建昆穿着白大褂，身在一间纯白色的实验室里。
戴同色手套的手上，拿着一只镊子，尖头上夹着一枚指甲盖大小的胶片类物品。
这就是一片光掩膜版。
看起来平平无奇，和普通胶片无异。
但是制造难度相当之高。
李建昆重生回来前的二零二零年代，全球光掩膜版市场，仍有七成以上的市场份额，掌握在美日韩企业手中。
有这份技术在手，再加上光刻机，芯片制造的第一步工艺流程，算是完成一半了——
还缺个光刻胶。
不过，现在有个问题……
“同辉制造光掩膜版的水平，能达到二档吗？”他侧头问，旁边候着七八个白大褂。
近处一人，讪讪一笑，在这位面前自然不敢吹牛批：“只能到准三档。”
李建昆喜悦的心情，黯淡下来不少。
也就是说，连第三个层级都达不到。
做是能做出来，但只能做出最差的……
无独有偶，这不是李建昆遇到的第一个类似情况。
昨天他去视察了一家化工用品厂，能够生产湿电子化学品。
公司规模还不小，这类湿电子化学品，在半导体市场上应用广泛。
无论是光刻芯片，还是蚀刻电路板，在制造过程中都要对晶圆反复进行冲洗，这时就需要用到湿电子化学品。
种类繁多，譬如蚀刻液、显影液、极性溶液、氢氟酸、硫酸、双氧水、异丙醇等。
这家现在华电旗下的化工用品厂也是一样。
能生产出不少湿电子化学品，卖得还挺好，但都是最差的那种，堪称劣质。
在高端芯片上，基本不能用……
“想尽一切办法提升技术水平，把制造生产高端光掩膜版作为战略发展目标，总公司那边要钱给钱，要人招人，全力支持，我只有一个要求：
“在最短的时间内，把技术水平提上去！”
同辉公司陪同的几名高管，赶忙应是。
削尖脑袋去钻研呗，还能有什么办法，这位都亲自发话了……
李建昆暗叹口气，如他所想一样，收购整合这些公司后，的确能捯饬出一些芯片制造材料。
然而，技术不过关。
弄出来的都是很差的那种。
这些公司仍需要大力发展，无底洞式地砸钱……
他只能这样去安慰自己：
1质量好不好的，起码有了不少材料可用。
2对于许多材料来说，至少有个研发的底子了，不至于像无头苍蝇。
离开同辉胶卷公司时，华电集团的副总吴博龙，看出大老板心有郁结，思忖着说：
“董事长，我们最近在洽谈收购一家公司，如果成功拿下，能得到一种水准线以上的、芯片制造的关键材料。”
“哦？什么？”李建昆问。
“光刻胶。”
李建昆：“！！！”
他瞬间来了精神。
在芯片制造的核心材料中，光刻胶绝对是个研发老大难，或许没有之一。
比如特区华电研究院那边，对此一点头绪都没有。
而像诸如湿电子化学品这类材料，华电研究院其实也有研究。
光刻胶，听起来像一种胶水，事实上差也差不多。
它是一种有机化合物，本身呈液体状，涂在晶圆表面，被紫外光曝光后，在显影溶液中的溶解度会发生变化，而后干燥成胶膜，能将光掩膜版上的图形转移到硅片上。
这玩意儿难就难在，成分极其复杂，制造工艺难以掌握。
光刻胶的主要成份有：高分子树脂、色浆、单体、感光引发剂、溶剂以及添加剂等。
问题是什么溶剂，什么添加剂，都是个谜。
搞明白这些还没有用，你得知道详细配比。
开发所涉及的技术难题众多，需要从低聚物结构设计和筛选、合成工艺的确定和优化、活性单体的筛选和控制、色浆细度控制和稳定、产品配方设计和优化、产品生产工艺优化和稳定、最终使用条件匹配和宽容度调整等方面进行调整……
晦涩不？
这是研究院的大佬告诉李建昆的。
然而，即使知道这玩意儿是怎么弄出来的，没有掌握具体信息，仍然无法开展有效研究。
“哪家公司？”他眼冒绿光问。
“星港化成。”吴博龙回道。
“不惜一切代价拿下！”